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粉塵游離二氧化硅分析儀依據(jù)國家職業(yè)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)《GBZ/T 192.4-2007工作場(chǎng)所空氣中粉塵測(cè)定 第4部分：游離二氧化硅含量》中規(guī)定的前處理步驟，自動(dòng)完成添加焦磷酸、自動(dòng)加熱攪拌、自動(dòng)升溫、15分鐘消解過程準(zhǔn)確控溫在245℃-250℃、自動(dòng)降溫、自動(dòng)注水、自動(dòng)復(fù)溫、自動(dòng)過濾、自動(dòng)清洗等功能，整個(gè)過程無需人員值守，實(shí)現(xiàn)了游離二氧化硅分離前處理的自動(dòng)化。
全自動(dòng)游離二氧化硅前處理工作站，依據(jù)國家職業(yè)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)《GBZ/T 192.4-2007工作場(chǎng)所空氣中粉塵測(cè)定 第4部分：游離二氧化硅含量》中規(guī)定的前處理步驟，自動(dòng)完成添加焦磷酸、自動(dòng)加熱攪拌、自動(dòng)升溫、15分鐘消解過程準(zhǔn)確控溫在245℃-250℃、自動(dòng)降溫、自動(dòng)注水、自動(dòng)復(fù)溫、自動(dòng)過濾、自動(dòng)清洗等功能，整個(gè)過程無需人員值守，實(shí)現(xiàn)了游離二氧化硅分離前處理的自動(dòng)化。
全自動(dòng)游離二氧化硅前處理儀依據(jù)國家職業(yè)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)《GBZ/T 192.4-2007工作場(chǎng)所空氣中粉塵測(cè)定 第4部分：游離二氧化硅含量》中規(guī)定的前處理步驟，自動(dòng)完成添加焦磷酸、自動(dòng)加熱攪拌、自動(dòng)升溫、15分鐘消解過程準(zhǔn)確控溫在245℃-250℃、自動(dòng)降溫、自動(dòng)注水、自動(dòng)復(fù)溫、自動(dòng)過濾、自動(dòng)清洗等功能，整個(gè)過程無需人員值守，實(shí)現(xiàn)了游離二氧化硅分離前處理的自動(dòng)化。
游離二氧化硅前處理儀依據(jù)國家職業(yè)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)《GBZ/T 192.4-2007工作場(chǎng)所空氣中粉塵測(cè)定 第4部分：游離二氧化硅含量》中規(guī)定的前處理步驟，自動(dòng)完成添加焦磷酸、自動(dòng)加熱攪拌、自動(dòng)升溫、15分鐘消解過程準(zhǔn)確控溫在245℃-250℃、自動(dòng)降溫、自動(dòng)注水、自動(dòng)復(fù)溫、自動(dòng)過濾、自動(dòng)清洗等功能，整個(gè)過程無需人員值守，實(shí)現(xiàn)了游離二氧化硅分離前處理的自動(dòng)化。
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